为什么二次电子成像的分辨率很高?
因为二次电子是从试样表层直接产生的,入射电子在此区域尚未发生多次反射,这导致产生二次电子的具体区域范围,与入射电子束照射在样品上的面积几乎完全一致,几乎没有扩散。正是这种高度的空间对应关系,使得图像能够保持极高的清晰度,分辨率通常能达到5到10纳米的水平。
因为二次电子是从试样表层直接产生的,入射电子在此区域尚未发生多次反射,这导致产生二次电子的具体区域范围,与入射电子束照射在样品上的面积几乎完全一致,几乎没有扩散。正是这种高度的空间对应关系,使得图像能够保持极高的清晰度,分辨率通常能达到5到10纳米的水平。
解释得很透彻。关键就在于“表面产生”和“无扩散”这两点,入射束打在哪,信号就出在哪,没有散射带来的模糊,所以分辨率自然高。